Sommario:
- Perché un magnetron sputa?
- Cosa si intende per sputtering reattivo?
- Come funziona lo sputtering del magnetron?
- Perché RF sputter?
Video: Per sputtering reattivo del magnetron?
2024 Autore: Fiona Howard | [email protected]. Ultima modifica: 2024-01-10 06:39
Lo sputtering reattivo del magnetron è una tecnica matura per depositare uno strato composto sottile su un'ampia gamma di substrati come strato superiore o come strato intermedio in un rivestimento multistrato. La portata di "sottile" varia da pochi nanometri fino a diversi micrometri.
Perché un magnetron sputa?
Lo sputtering di magnetron è il processo di collisione tra particelle incidenti e bersagli … Lo sputtering di magnetron aumenta la densità del plasma introducendo un campo magnetico sulla superficie del catodo bersaglio e utilizzando i vincoli di il campo magnetico sulle particelle cariche per aumentare la velocità di sputtering.
Cosa si intende per sputtering reattivo?
Lo sputtering reattivo è un processo che consente il deposito di composti introducendo un gas reattivo (tipicamente ossigeno o azoto) nel plasma che è tipicamente formato da un gas inerte come argon (il più comune), xeno o krypton.
Come funziona lo sputtering del magnetron?
Il magnetron sputtering è una tecnologia di deposizione che coinvolge un plasma gassoso che viene generato e confinato in uno spazio contenente il materiale da depositare, il "bersaglio". … Queste collisioni provocano una repulsione elettrostatica che 'stacca via' gli elettroni dagli atomi di gas sputtering, provocando la ionizzazione.
Perché RF sputter?
Lo sputtering a radiofrequenza o RF è la tecnica implicata nell' alternanza del potenziale elettrico della corrente nell'ambiente del vuoto alle radiofrequenze per evitare che si accumuli una carica su alcuni tipi di materiali bersaglio di sputtering, che nel tempo può provocare la formazione di un arco nel plasma che emette goccioline …
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